薄膜均匀性高
沉积的薄膜具有高均匀性，高孔洞 / 侧壁覆盖率，高附着力的性能特征。
TKP-0602S
德风芯 SUPREME 连续式真空溅镀系统主要应用于 SiP EMI 电磁屏蔽层沉积、Fanout RDL 种子层沉积、NPL 层沉积以及BSM 晶圆背面金属化沉积，适用于高效批量加工大尺寸工件。SUPREME 主要由上下料腔、等离子腔、缓冲腔、溅镀工艺腔等构成，可以根据不同的产品应用需求提供不同腔体设计，沉积的薄膜具有高均匀性、高孔洞 / 侧壁覆盖率、高附着力等性能特征。
| 项 目 | 内 容 |
| 设备尺寸 | 根据客户规格要求 |
| 电源 | 直流电源，射频电源(可选) |
| 真空腔体 | 不锈钢 |
| 真空管路 | 不锈钢管路 |
| 工艺气体 | Ar,02可选 |
| 控制系统 | PC |